高校、硅材料實(shí)驗(yàn)室、微電子專(zhuān)業(yè)高溫氧化爐 |
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用途: 主要用于各大高校、硅材料實(shí)驗(yàn)室、及微電子專(zhuān)業(yè)對(duì)半導(dǎo)體6寸及以下硅片的高溫?cái)U(kuò)散、氧化(濕氧)、退火、燒結(jié)合金工藝的教學(xué)和實(shí)驗(yàn)工作。 1.1、工作溫度:400-1300℃ 1.2、恒溫區(qū)長(zhǎng)度及精度: 300mm /±0.5℃(可選) 1.3、爐管數(shù):一、二、三、四管(可選) 1.4、適應(yīng)硅片尺寸: 6寸及向下兼容 1.5、送取片方式:自動(dòng)或手動(dòng)(可選)
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