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等離子體反應區富含極高的物質，如高能電子、離子、自由基和激發態分子等，廢氣中的污染物質可與這些具有較高能量的物質發生反應，使污染物質在極短的時間內發生分解，并發生后續的各種反應以達到講解污染物的目的。與傳統的電暈放電形勢產生的低溫等離子技術相比較，等離子體技術放電密度是電暈放電的1500倍，這就是傳統低溫等離子體技術治理工業廢氣99%以失敗而告終的原因。

1、利用高能高臭氧紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧。UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用，對有機氣體及其它性異味有立竿見影的效果。有機性氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后，運用高能紫外線光束及臭氧對有機（異味）氣體進行協同分解氧化反應，使有機氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

2、催化劑（二氧化鈦）在受到紫外線光照射時生成化學活潑性很強的超氧化物陰離子自由基和氫氧自由基，攻擊有機物，達到降解有機物的作用。二氧化鈦屬于非溶出型材料，在徹底分解有機污染物和殺滅菌的同時，自身不分解、不溶出，光催化作用持久，并具有持久的殺菌、降解污染物效果。

1、高效降解有機化學物：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，脫臭效果大大超過1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）．

2、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。

3、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同有機化學氣體物質的凈化處理，可每天

24小時連續工作，運行穩定可靠。

4、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作

定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設備風阻極

低＜30pa,可節約大量排風動力能耗。

5、無需預處理：廢氣無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環境溫度在

攝氏-30℃～95℃之間，濕度在40%～98%之間均可正常工作。

6、設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。

在對大氣污染治理日益重視的情況之下，大的設備廠房都會被強制加裝廢氣除臭設備，而設備使用為廣泛的就是UV光解除臭，不僅能夠確保廢氣得到良好的處理，而且初期投資的設備資金也不多。那么在使用UV光解除臭設備的過程中應該注意哪些方面呢？