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德國Micro Resist公司創(chuàng)立于1993年.公司生產(chǎn)的高性能各種用于微納制作的光刻膠，除了生產(chǎn)用于i、g和h線的光刻膠以外，還有電子束刻蝕膠和納米壓印膠以及專門用于光學(xué)波導(dǎo)制作的光膠可供選擇。

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MR-I T85系列

熱塑性NIL抵抗劑 基于非極性環(huán)烯烴共聚物（TOPAS）的T-NIL抗蝕劑（Tg?= 85°C）

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特征：

1）用于制造微流體或芯片實驗室設(shè)備的薄膜厚度可能高達(dá)5 μm

2）100％有機熱塑性塑料→可以使用純氧等離子體進(jìn)行干法蝕刻和剝離

3）在紫外線/可見光范圍內(nèi)具有最高的光學(xué)透明度，并具有針對不同溶劑，酸和堿的獨特化學(xué)穩(wěn)定性

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應(yīng)用領(lǐng)域

芯片實驗室系統(tǒng)

1）生物應(yīng)用??????????????????4）波導(dǎo)

2）微流控??????????????????????5）單層和多層系統(tǒng)

3）微光學(xué)元件??????????????6）用于圖案轉(zhuǎn)印過程的掩模

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處理步驟

玻璃化溫度??85°攝氏度

烙印溫度??130 – 150°C

壓印壓力??5 – 20巴
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適用于各種膜厚（3000 rpm）*?

mr-I?T85-0.3???300?nm

mr-I?T85-1.0???1.0?μm

mr-I?T85-5.0????5.0?μm

*可根據(jù)要求提供定制的膜厚

邁可諾技術(shù)有限公司

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