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太倉等離子廢氣處理品質(zhì)可靠太倉等離子廢氣處理

wutianhuan檢測要求

(1)治理設(shè)備應設(shè)罝性采樣口，采樣口的設(shè)罝應符合HJ/T 1，采樣

應GB/T 1615要求。采樣頻次和檢測項0應根據(jù)T_藝控制要求確屯。

(2)處量>10000m3/h的應裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測裝罝：處

莆<10000m3/h的可以不裝設(shè)廢氣濃度在線連續(xù)檢測裝罝，伹應配備相應的

濃度檢測儀器定期進行廢氣濃度檢測。在線連續(xù)監(jiān)測的運行應符合國家

自動監(jiān)測濘理辦法的要求。

(3)有機廢氣的濃度檢測儀目前使用的主要是總剄檢測儀。在大多數(shù)情況下

使用總徑檢測儀就可以檢測要求。

(4)吸附器、催化器的加熱室和反應室內(nèi)部裝設(shè)具有自動報鳘功能的多

點溫度檢測裝置，用于溫度的監(jiān)控，包括預熱溫度和反應器進出口氣流溫度等。

溫度傳感器應按JJF 1049的要求標足后使用。

在吸附和吸附劑的再生中，吸附器內(nèi)的溫度都在不斷地發(fā)生變化。特別

是對于較髙濃度氣體的吸附，由于吸附放熱，床層的溫升明顯。在吸附劑的再生

中，特別是使用熱氣流吹掃再生和髙溫水蒸氣罝換再生時，再生氣流溫度過

髙，床層中達到一泣的溫度時就會發(fā)生危險，閔此一般要求對吸附器的溫度進行

監(jiān)控。催化器的加熱室相反應室內(nèi)部應裝設(shè)具有R動報蝥功能的多點溫度檢

測裝罝是催化器設(shè)計的某本要求。

(5)應定期檢測過濾兩端的壓差。

7. 2控制要求

在一般情況下，廢氣治理設(shè)備與生產(chǎn)工藝相比應該先開后停，前后要有約10

分鐘的時間間隔，似需要巧生產(chǎn)車間進行脅調(diào)，實現(xiàn)連鎖控制。

治理丁程應采用總線分布控制，實現(xiàn)對的控制及進出口溫度、壓力

和流量等的遠程集中控制。

控制閥門應選用防爆和丁藝要求的氣動或電動控制。防爆招施采取隔爆

型和本安型相結(jié)合。本安型防爆原理是將執(zhí)行器或控制電磁閥中的線圈經(jīng)過底功率技術(shù)處理了電壓、電流，將功率在低極限以下；隔爆原理的運用，如在防爆廠各種電氣元件的連接采用特殊的防爆接頭等。

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彩印廠廢氣凈化工程

應用范圍
△ 工業(yè)生產(chǎn)中產(chǎn)生有機廢氣的凈化；
△ 生物、化工行業(yè)在其各種加工中產(chǎn)生異味、惡臭廢氣的凈化；
△ PV、人造革油煙凈化，增塑劑回收；
△ 印刷油墨廢氣的凈化等。

低溫等離子體和催化氧化凈化原理：
1、等離子體的概念：氣體在高壓電場作用下產(chǎn)生電離，電離形成的輝光態(tài)即為等離子體，并被稱之為的第四態(tài)。等離子體由電子、離子、基和中性粒子組成，總體上保持電中性。
2、低溫等離子體凈化原理：脈沖電暈放電和介質(zhì)阻擋放電是在氣態(tài)污染物凈化方面的兩種凈化技術(shù)。等離子體中存在很多電子、離子、活性基和激發(fā)態(tài)分子等有極高化學活性的粒子，使很多需要很高活化能的化學反應能夠發(fā)生，使常規(guī)難以祛除的污染物得以轉(zhuǎn)化或分解。對于有機和異味惡臭廢氣在等離子體中的氧化降解機理，反應主要有以下幾個：
（1）高能電子的作用下強氧化性基O、OH、HO2等的產(chǎn)生；
（2）有機物分子受到高能電子碰撞，被激發(fā)及原子鍵斷裂形成碎片基團或原子；
（3）O、OH、HO2與激發(fā)原子有機物分子、破碎的分子基團、基等一系列基反應，終將有機物分子氧化降解為二氧化碳和水等無害。

3、催化氧化凈化原理：在等離子電場凈化外，我公司還應用具有催化氧化能力的催化氧化劑，進一步凈化降解有機和異味惡臭廢氣，該催化氧化劑以稀土為載體，同時浸漬一定比例的溶液，經(jīng)科學工藝合成直徑在2～4mm顆粒狀催化氧化劑。
首先，該氧化劑微孔多，吸附性強，具有很大的比表面積，約800～1200M2/g，因此使用周期長，一般為一年更換一次。其次，氧化性強，顆粒狀氧化劑里外微孔都浸漬了，氧化性特別強。再則直徑2～4mm顆粒狀催化氧化劑裝模在V字型的箱子內(nèi)，風阻小，氧化均勻，更換容易。
催化氧化機理實質(zhì)是氧化還原機理，通過得失電子的化學將污染物中的碳氧化為二氧化碳，將廢氣中的異味氧化還原為二氧化碳和水。
該催化氧化劑具有、、更換方便、無二次污染等優(yōu)點，能進一步氧化前幾段未處理盡的有害和祛除廢氣的異味，終達到排放。

4、廢氣凈化機工藝流程圖：

凈化裝置擬設(shè)計為五段凈化：
?段為洗滌塔清洗裝置
     除去瀝青煙氣中的大顆粒煙塵并使廢氣溫度。瀝青煙氣的硫化氯、等氣體與塔中藥劑中和洗滌，以保證后續(xù)處理效果。
?第二段為除水裝置
     通過除水器除去廢氣中大顆粒水汽，以便后續(xù)的凈化處理。
?第三段為預處理過濾裝置
使瀝青煙氣均勻通過凈化裝置，確保煙氣凈化效率大化，同時利用機械碰撞、重力沉降的原理，使均流板上形成的大顆粒油滴集油槽內(nèi)。
?第四段為等離子體凈化裝置
低溫等離子體電暈放電技術(shù)降解有害廢氣是科技領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)。這種放電產(chǎn)生于兩個電極之間，并在脈沖高壓電作用下對空氣放電，將空氣，從而產(chǎn)生等離子體。其產(chǎn)生的大量活性基（OH—、O2—、H+、O3）可以直接打開有害廢氣各種氣體分子之間的分子鍵，使有害氣體分解為簡單的小分子，從而對有害氣體和異味進行降解和氧化，終產(chǎn)物對人體和均無害。
?第五段為活性炭吸附裝置
在等離子電場凈化外，我公司還應用204型活性炭顆粒，進一步凈化吸附有機和異味惡臭廢氣。
此類活性炭顆粒以含碳材料為載體，經(jīng)科學工藝合成直徑在2～4mm 的活性炭顆粒，可吸附等有害氣體。該顆粒微孔多，吸附性強，具有很大的比表面積，約800～1200m2/mg，因此使用周期長，一般為六個月更換一次。其次，顆粒狀活性炭里外微孔都浸漬了，氧化性特別強。再則，活性炭顆粒裝模在V字型的箱子內(nèi)，風阻小，氧化均勻，更換容易。
    因此選用活性炭顆粒吸附裝置，進一步吸附通過前期處理后氣體中殘余的異味，使終凈化效率達到90%以上。

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從上式可以看出，該反應是放熱反應，氧化時的高溫氣體的熱量被蓄熱體“貯存”起來，用于預熱新進入的有機廢氣，從而節(jié)省升溫所需要的燃料消耗，運行成本。PU皮革生產(chǎn)有濕法工藝和干法工藝。濕法工藝采用單一的DMF溶劑（）；干法工藝除了含DMF溶劑還含有和甲苯。濕法工藝DMF溶劑主要在水體里，而干法工藝采用濕式洗滌塔用水來吸收可溶性的DMF。不管濕法工藝還是干法工藝，溶解在水里的高濃度DMF，都通過精餾法回收DMF。然而DMF在精餾回收中容易受熱分解產(chǎn)生和甲酸，DMF在精餾回收產(chǎn)生由塔頂帶出，甲酸隨DMF分出。PU皮革工藝產(chǎn)生的廢氣主要為DMF、和甲苯。雖然只占DMF的0.1%，但由于DMF回收總量很大，又有強烈的惡臭，對影響很大，必須對進行進一步的處理。5、運行成本較低，比常用的蓄熱式爐RTO節(jié)約運行費用5-8倍，每立方米氣量運行費用為0.3～0.9分錢，部分高濃度廢氣可以通過空氣稀釋后用技術(shù)處理；其它影響因素：資金承受能力、技術(shù)裝備水平。

【標題等離子廢氣處理

（8）設(shè)計的換熱流程，余熱充分回用，運行成本；碳層前可以設(shè)置漆霧過濾段，有效保證活性碳的吸附效率和使用壽命。 （3）采用、結(jié)構(gòu)合理的傳質(zhì)設(shè)備和可靠的材質(zhì)；從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。VOC廢氣的生物法凈化實質(zhì)上是利用微生物的生命活動將廢氣中的有害轉(zhuǎn)變成簡單的無機物( 如CO2和H2O) 及細胞等，主要工藝有生物洗滌法、生物過濾法和生物滴濾法三種有機廢氣生物處理是一項新的技術(shù)，由于反應器涉及到氣/ 液/固相傳質(zhì)及生化降解， 影響因素多而復雜，有關(guān)的理論研究及實際應用還不夠深入、廣泛，許多問題需要進一步探討和研究，主要包括建立準確的反應動力學;填料特性以及如何克服 顆粒物在濾床中積累造成的堵塞; 動態(tài)負荷(濃度和廢氣流量波動較大) 的調(diào)控; 適工藝參數(shù)的確定;高濃度有機廢氣的治理;適合于特定有機物降解的種類和接種等。廢氣處理設(shè)備有機廢氣的及催化凈化設(shè)備：法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對后氣體進一步處理。